发明名称 可提升薄膜均匀度之线性蒸镀装置
摘要 一种可提升薄膜均匀度之线性蒸镀装置,具有一绝热腔体、复数个坩锅、复数个镀材加热器及一混合腔体,该等坩锅、镀材加热器及该混合腔体皆设于绝热腔体中,其特征在于,混合腔体内相距该等坩锅由近至远依序设有一限流调整层、一流道调整件、一混合层及一线性蒸镀层,其中限流调整层系为矩形片状体,并对应各该坩锅位置分设有复数个限流孔;流道调整件系为连通结构,且具有至少一流入口及至少一流出口,流入口系对应部分该等限流孔位置设置;混合层系为略呈I字型之片状体结构;线性蒸镀层系为矩形片状体,并开设有由两端至中间位置呈渐缩态样之一线源蒸镀开口,藉此可提升蒸镀薄膜之成分均匀度。
申请公布号 TWM491673 申请公布日期 2014.12.11
申请号 TW103214289 申请日期 2014.08.12
申请人 国家中山科学研究院 桃园县龙潭乡中正路佳安段481号 发明人 梁仕昌;洪茂森;黄伟杰;魏肇男;倪国裕;薄慧云
分类号 C23C14/30 主分类号 C23C14/30
代理机构 代理人
主权项 一种可提升薄膜均匀度之线性蒸镀装置,具有一绝热腔体、复数个坩锅、复数个镀材加热器及一混合腔体;该等坩锅、该等镀材加热器及该混合腔体系皆设于该绝热腔体中,且该等镀材加热器系分别套设于该等坩锅外供以加热,该混合腔体则连通设于该等坩锅之开口处,其特征在于:该混合腔体内相距该等坩锅由近至远依序设有一限流调整层、一流道调整件、一混合层及一线性蒸镀层;其中该限流调整层系为矩形片状体,并对应各该坩锅位置分设有复数个限流孔;该流道调整件系为连通结构,且具有至少一流入口及至少一流出口,该流入口系对应部分该等限流孔位置设置;该混合层系为略呈I字型之片状体结构;该线性蒸镀层系为矩形片状体,并开设有由两端至中间位置呈渐缩态样之一线源蒸镀开口。
地址 桃园县龙潭乡中正路佳安段481号