发明名称 一种石墨烯/衬底复合导电材料的制备方法
摘要 本发明公开了一种石墨烯/衬底复合导电材料的制备方法,属于石墨烯转移领域,该制备方法为:首先采用CVD法在铜箔上生长石墨烯,形成石墨烯/铜复合膜;然后将石墨烯/铜复合膜以石墨烯面向上置于成型模具中,采用成型工艺将衬底流体均匀涂覆在石墨烯上,固化,得到衬底/石墨烯/铜三层复合材料;最后去除铜层,即得石墨烯/衬底导电材料。其优点为:本发明运用流体贴合形式进行石墨烯导电膜的制备,克服了因转移导致的石墨烯的皱褶、破损、裂缝等缺陷;极大提高了复合导电材料的电学性质;提高了石墨烯的纯度,拓宽了石墨烯导电材料的应用范围;操作简单,耗时短,成型快,极易大批量生产。
申请公布号 CN104191803A 申请公布日期 2014.12.10
申请号 CN201410433837.5 申请日期 2014.08.29
申请人 武汉大学 发明人 刘锋;蔡华飞;贺钰;刘胜
分类号 B32B38/18(2006.01)I;B32B37/15(2006.01)I 主分类号 B32B38/18(2006.01)I
代理机构 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人 张火春
主权项 一种石墨烯/衬底复合导电材料的制备方法,其特征在于包括如下步骤:(1)采用CVD法在经清洁和抛光处理后的铜箔上生长石墨烯,形成石墨烯/铜复合膜;(2)将步骤(1)制备的石墨烯/铜复合膜以石墨烯面向上置于成型模具中,采用成型工艺将衬底流体均匀涂覆在石墨烯上,固化,得到衬底/石墨烯/铜三层复合材料;(3)去除步骤(2)制备的衬底/石墨烯/铜三层复合材料中的铜层,即得石墨烯/衬底导电材料。
地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学
您可能感兴趣的专利