| 发明名称 | 测量EUV镜头的成像质量的测量系统 | ||
| 摘要 | 一种用于测量EUV镜头(30)的成像质量的测量系统(10)，包括：衍射测试结构(26)；测量光辐射装置(16)，构造成将EUV波长范围中的测量光(21)辐射至测试结构；变更装置(28)，用于改变借助镜头实现的测试结构的成像的至少一个像确定参数；探测器(14)，用于记录像堆，所述像堆包括在设定不同像确定参数的情况下产生的多个像；以及评估装置(15)，构造成从像堆确定镜头的成像质量。 | ||
| 申请公布号 | CN104204952A | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
| 申请号 | CN201380015955.8 | 申请日期 | 2013.03.22 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | R.弗里斯;M.萨马尼戈;M.德冈瑟;H.海德纳;R.霍克;M.施里弗 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01M11/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈金林 |
| 主权项 | 一种用于测量EUV镜头的成像质量的测量系统，包括：‑衍射测试结构；‑测量光辐射装置，构造成将处于EUV波长范围中的测量光辐射至所述测试结构上；‑变更装置，用于改变所述测试结构借助所述镜头实现的成像的至少一个像确定参数；‑探测器，用于记录像堆，所述像堆包括在设定不同像确定参数的情况下产生的多个像；以及‑评估装置，构造成从所述像堆确定所述镜头的成像质量。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||