发明名称 | 一种红外目标和干扰仿真装置 | ||
摘要 | 本发明公开一种红外目标和干扰仿真装置,包括目标黑体、目标聚光镜、目标光阑、投影物镜组、干扰黑体、干扰聚光镜、干扰光阑和合束器;目标黑体、目标聚光镜、目标光阑的光轴与投影物镜组的光轴重合,干扰黑体、干扰聚光镜、干扰光阑的光轴与投影物镜组的光轴相垂直;合束器与投影物镜组的光轴呈45度设置,目标光阑和干扰光阑均安装在投影物镜组的焦平面上;合束镜为半反半透镜;目标黑体辐射的红外光经目标聚光镜后均匀照亮目标光阑,干扰黑体辐射的红外光经干扰聚光镜后均匀照亮干扰光阑;合束器将透射的红外目标和反射的红外干扰合束;投影物镜组将合束后的红外目标和红外干扰投射到无穷远。 | ||
申请公布号 | CN104197784A | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
申请号 | CN201410483849.9 | 申请日期 | 2014.09.19 |
申请人 | 北京仿真中心 | 发明人 | 虞红;高阳;雷杰;杨召伟;杜惠杰;张盈 |
分类号 | F41G3/32(2006.01)I | 主分类号 | F41G3/32(2006.01)I |
代理机构 | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人 | 张文祎 |
主权项 | 一种红外目标和干扰仿真装置,其特征在于:包括目标黑体、目标聚光镜、目标光阑、投影物镜组、干扰黑体、干扰聚光镜、干扰光阑和合束器;目标黑体、目标聚光镜、目标光阑的光轴与投影物镜组的光轴重合,干扰黑体、干扰聚光镜、干扰光阑的光轴与投影物镜组的光轴相垂直;合束器与投影物镜组的光轴呈45度设置,所述目标光阑和干扰光阑均安装在所述投影物镜组的焦平面上;所述合束镜为半反半透镜;所述目标黑体辐射的红外光经所述目标聚光镜后均匀照亮所述目标光阑,所述干扰黑体辐射的红外光经所述干扰聚光镜后均匀照亮所述干扰光阑;所述合束器将透射的红外目标和反射的红外干扰合束;所述投影物镜组将合束后的红外目标和红外干扰投射到无穷远。 | ||
地址 | 100854 北京市海淀区142信箱30分箱 |