| 发明名称 | 曝光描绘装置及曝光描绘方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够确认对各被曝光基板的曝光处理时的曝光装置内的尘埃等级的曝光描绘装置及曝光描绘方法。所述曝光描绘装置具备：曝光单元，通过对被曝光基板进行曝光而描绘电路图案；计数单元，对曝光描绘装置内的微粒的粒子数进行计数；判定单元，判定曝光单元的曝光处理中利用计数单元计数出的粒子数是否是基于与电路图案的图案相关的尺寸而规定的阈值以上；及附加单元，在由判定单元判定为是阈值以上的情况下，对被曝光基板附加预先规定的信息。 | ||
| 申请公布号 | CN104205291A | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
| 申请号 | CN201380010638.7 | 申请日期 | 2013.01.24 |
| 申请人 | 株式会社阿迪泰克工程 | 发明人 | 桥口昭浩;菊池浩明;吉川武志 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 熊传芳;苏卉 |
| 主权项 | 一种曝光描绘装置，具备：曝光单元，通过对被曝光基板进行曝光而描绘电路图案；计数单元，对曝光描绘装置内的微粒的粒子数进行计数；判定单元，判定所述曝光单元的曝光处理中由所述计数单元计数出的粒子数是否是基于与所述电路图案的图案相关的尺寸而规定的阈值以上；及附加单元，在由所述判定单元判定为是阈值以上的情况下，对所述被曝光基板附加预先规定的信息。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||