发明名称 |
一种清洗设备颗粒监控的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种清洗设备颗粒监控的方法,包括如下步骤:步骤S1、提供一晶圆,并将所述晶圆划分为若干面积均等且间隔分布的第一区域和第二区域;步骤S2、于所述第一区域注入正电荷离子,并于所述第二区域注入负电荷离子;步骤S3、将离子注入后的晶圆浸入于酸槽药液中;步骤S4、取出浸入后的晶圆,并采用一缺陷检测设备进行扫描观察,以检测所述酸槽药液中的颗粒数量是否异常。本发明在进行以上步骤后,通过观察该晶圆表面的颗粒分布即可简单、高效、高灵敏度的检测药液中的颗粒的数量以及电性类型,从而分析出酸槽药液中颗粒物异常的原因,并采取有效的对应措施避免大量的药液产品受到影响。 |
申请公布号 |
CN104201129A |
申请公布日期 |
2014.12.10 |
申请号 |
CN201410441448.7 |
申请日期 |
2014.09.01 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
倪棋梁;陈宏璘;龙吟 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
上海申新律师事务所 31272 |
代理人 |
吴俊 |
主权项 |
一种清洗设备颗粒监控的方法,其特征在于,所述方法包括:步骤S1、提供一晶圆,并将所述晶圆划分为若干面积均等的第一区域和第二区域;步骤S2、于所述第一区域注入正电荷离子,并于所述第二区域注入负电荷离子;步骤S3、将离子注入后的晶圆浸入于酸槽药液中;步骤S4、取出浸入后的晶圆,并采用一缺陷检测设备进行扫描观察,以检测所述酸槽药液中的颗粒数量是否异常。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |