发明名称 固态成像装置、用于制造固态成像装置的方法和成像设备
摘要 本发明涉及固态成像装置、用于制造固态成像装置的方法和成像设备。该固态成像装置包括:光接收单元,其形成在半导体基体中并用于执行光电转换;绝缘层,其布置在半导体基体上;膜,其与绝缘层一起构成波导的覆层,通过涂布技术使膜形成在孔的内部的外侧部分,所述孔在光接收单元上方形成在绝缘层中;波导的芯部,芯部由具有比用于绝缘层的材料的折射率以及用于通过涂布技术形成的膜的材料的折射率更高的折射率的材料构成,芯部形成在孔的内部的内侧部分;以及内透镜,其与波导一体化,内透镜具有在所述孔的底部处在由涂布技术形成的膜与芯部之间的界面处形成的透镜表面。
申请公布号 CN101924114B 申请公布日期 2014.12.10
申请号 CN201010196324.9 申请日期 2010.06.03
申请人 索尼公司 发明人 松谷弘康
分类号 H01L27/146(2006.01)I 主分类号 H01L27/146(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人 王安武;南霆
主权项 一种固态成像装置,包括:光接收单元,其形成在半导体基体中并用于执行光电转换;绝缘层,其布置在所述半导体基体上;膜,其与所述绝缘层一起构成波导的覆层,通过涂布技术使所述膜形成在孔的内部的外侧部分,所述孔在所述光接收单元的上方形成在所述绝缘层中;所述波导的芯部,所述芯部由具有比用于所述绝缘层的材料的折射率以及用于通过所述涂布技术形成的所述膜的材料的折射率更高的折射率的材料构成,所述芯部形成在所述孔的所述内部的内侧部分;以及内透镜,其与所述波导一体化,所述内透镜在所述孔的底部处在由所述涂布技术形成的所述膜与所述芯部之间的界面处形成透镜表面,其中,所述膜具有所述绝缘层的折射率相等或更高的折射率。
地址 日本东京都
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