| 发明名称 | 基板处理装置以及加热器清洗方法 | ||
| 摘要 | 对与由基板保持单元(3)保持的基板(W)的上表面相对配置且用于对该上表面加热的加热器(35)进行清洗。加热器具有红外线灯(38)和外壳(40)。加热器清洗方法包含以下工序：加热器配置工序，在加热器清洗位置以与第一喷出口(84)相对的方式配置所述加热器，所述加热器清洗位置是具有第一喷出口的下喷嘴(82)的上方的位置，所述第一喷出口与保持于所述基板保持单元的基板的下表面相对并且向上方喷出液体；以及下清洗液喷出工序，在所述基板保持单元上未保持基板的状态下，对所述下喷嘴供给清洗液，从所述第一喷出口向上方喷出清洗液，由此，对配置在所述加热器清洗位置的所述加热器的所述外壳的外表面供给清洗液。 | ||
| 申请公布号 | CN104205305A | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
| 申请号 | CN201380015581.X | 申请日期 | 2013.02.25 |
| 申请人 | 大日本网屏制造株式会社 | 发明人 | 村元僚 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 魏彦;金相允 |
| 主权项 | 一种加热器清洗方法，用于对加热器进行清洗，所述加热器具有红外线灯和外壳，与由基板保持单元保持的基板的上表面相对配置来对该上表面加热，其特征在于，包含以下步骤：加热器配置工序，在加热器清洗位置，以与第一喷出口相对置的方式配置所述加热器，所述加热器清洗位置是具有所述第一喷出口的下喷嘴的上方的位置，所述第一喷出口与保持于所述基板保持单元的基板的下表面相对置并且向上方喷出液体；以及下清洗液喷出工序，在所述基板保持单元未保持基板的状态下，对所述下喷嘴供给清洗液，从所述第一喷出口向上方喷出清洗液，从而对配置在所述加热器清洗位置的所述加热器的所述外壳的外表面供给清洗液。 | ||
| 地址 | 日本国京都府京都市 | ||