| 发明名称 | 氧化物烧结体及溅射靶、以及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种含Li过渡金属氧化物烧结体，其作为杂质元素的Al、Si、Zr、Ca以及Y被抑制为Al≤90ppm、Si≤100ppm、Zr≤100ppm、Ca≤80ppm、Y≤20ppm的范围内，并且满足相对密度为95％以上以及电阻率小于2×10<sup>7</sup>Ωcm。根据本发明，能够不产生异常放电地、稳定地以高成膜速度成膜为作为二次电池等的正极薄膜来说有用的含Li过渡金属氧化物薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN104204283A | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
| 申请号 | CN201380015355.1 | 申请日期 | 2013.03.19 |
| 申请人 | 株式会社钢臂功科研;株式会社丰岛制作所 | 发明人 | 武富雄一;田尾幸树;金丸守贺;坂井健二;长谷山秀悦;菊山英志 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C04B35/00(2006.01)I;H01M4/525(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种含Li过渡金属氧化物烧结体，其特征在于，是含有Li及过渡金属的氧化物烧结体，作为杂质元素的Al、Si、Zr、Ca以及Y被抑制为Al≤90ppm、Si≤100ppm、Zr≤100ppm、Ca≤80ppm、Y≤20ppm的范围内，并且满足相对密度为95％以上以及电阻率小于2×10<sup>7</sup>Ωcm，其中，ppm表示质量ppm。 | ||
| 地址 | 日本国兵库县 | ||