发明名称 | 研磨垫调整器和化学机械研磨装置 | ||
摘要 | 本实用新型提供一种研磨垫调整器,其至少包括:调整头、清洁刷;所述清洁刷设于所述调整头的外侧壁上。本实用新型的研磨垫调整器,结构简单,通过在调整头的外侧壁上套设清洁刷,在调整头与研磨头距离较近时,清洁刷能够对研磨头的定位环表面进行清洁;另外,清洁刷的刷毛分布均匀,清洁效果好,使晶圆免受粘附在定位环表面的研磨液结晶影响,从而提升了产品良率。此外,本实用新型还提供一种化学机械研磨装置,采用具有清洁刷的研磨垫调整器,在对晶圆进行化学机械研磨的过程中,能够及时去除飞溅到研磨头的定位环表面的研磨液,快速有效,无需经常清洗研磨头,保证了研磨头的正常工作时间,从而保证了每小时的晶圆出产量。 | ||
申请公布号 | CN203993547U | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
申请号 | CN201420479371.8 | 申请日期 | 2014.08.22 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 | 发明人 | 宋林飞 |
分类号 | B24B53/017(2012.01)I | 主分类号 | B24B53/017(2012.01)I |
代理机构 | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人 | 李仪萍 |
主权项 | 一种研磨垫调整器,其特征在于,所述研磨垫调整器至少包括:调整头、清洁刷;所述清洁刷设于所述调整头的外侧壁上。 | ||
地址 | 100176 北京市大兴区经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号 |