发明名称 研磨垫调整器和化学机械研磨装置
摘要 本实用新型提供一种研磨垫调整器,其至少包括:调整头、清洁刷;所述清洁刷设于所述调整头的外侧壁上。本实用新型的研磨垫调整器,结构简单,通过在调整头的外侧壁上套设清洁刷,在调整头与研磨头距离较近时,清洁刷能够对研磨头的定位环表面进行清洁;另外,清洁刷的刷毛分布均匀,清洁效果好,使晶圆免受粘附在定位环表面的研磨液结晶影响,从而提升了产品良率。此外,本实用新型还提供一种化学机械研磨装置,采用具有清洁刷的研磨垫调整器,在对晶圆进行化学机械研磨的过程中,能够及时去除飞溅到研磨头的定位环表面的研磨液,快速有效,无需经常清洗研磨头,保证了研磨头的正常工作时间,从而保证了每小时的晶圆出产量。
申请公布号 CN203993547U 申请公布日期 2014.12.10
申请号 CN201420479371.8 申请日期 2014.08.22
申请人 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 发明人 宋林飞
分类号 B24B53/017(2012.01)I 主分类号 B24B53/017(2012.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 李仪萍
主权项 一种研磨垫调整器,其特征在于,所述研磨垫调整器至少包括:调整头、清洁刷;所述清洁刷设于所述调整头的外侧壁上。
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