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发明名称
基材の被膜形成方法
摘要
プラスチック等の熱変形し易い基材に対しても適性を有し、簡便で生産性に優れ、また、機能性の持続性にも優れた、基材の表面を改質して機能性を付与するための被膜形成方法を提供することを課題とする。イソシアネート基含有不飽和化合物によるプライマー層を形成し、ついで機能性付与基含有不飽和化合物及び光重合開始剤を含有する機能性付与層を形成した後、活性エネルギー線を照射することを特徴とする被膜形成方法により前記課題を解決する。
申请公布号
JP5638173(B1)
申请公布日期
2014.12.10
申请号
JP20140533299
申请日期
2014.02.25
申请人
関西ペイント株式会社
发明人
澤崎 恵介;松島 直人;植野 成人
分类号
B05D1/36;B05D3/06;B05D7/24
主分类号
B05D1/36
代理机构
代理人
主权项
地址
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