| 发明名称 | 研磨垫及晶片清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种研磨垫及晶片清洗方法，通过在研磨垫上设置一个清洗窗口，可以对在该研磨台上完成研磨工艺但需等待进入下一个研磨台完成下一个研磨工艺是的晶片进行清洗，实现了晶片等待期间的清洗，去除晶片表面残留的研磨液，防止晶片在等待期间被腐蚀，从而提高晶片质量。 | ||
| 申请公布号 | CN104201141A | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
| 申请号 | CN201410428690.0 | 申请日期 | 2014.08.27 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 丁弋;朱也方 |
| 分类号 | H01L21/673(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I;B24B37/20(2012.01)I | 主分类号 | H01L21/673(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人 | 吴世华;林彦之 |
| 主权项 | 一种研磨垫，其特征在于，其包括研磨垫本体以及设于该研磨垫本体上的清洗窗口，该清洗窗口内设有至少一个清洗喷嘴，用于对与该研磨垫对应的上方研磨头携带的晶片进行清洗，该清洗喷嘴与供水管路相连。 | ||
| 地址 | 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 | ||