发明名称 |
改善亮场机台缺陷扫描精度的方法 |
摘要 |
本发明提出了一种改善亮场机台缺陷扫描精度的方法,将芯片结构按照不同材质等划分为多个区域,分别收集多个区域的灰阶分布曲线,再针对影响每个区域的缺陷类型分别设定针对各扫描区域的SAT参数,从而在对芯片进行缺陷扫描时,根据不同的区域的灰阶分布曲线使用相应的SAT参数组合,避免现有技术中只使用某个区域进行灰阶收集所得灰阶分布曲线进行SAT参数设定影响扫描精度问题,进而能够很好的监控形成的产品的良率。 |
申请公布号 |
CN104201132A |
申请公布日期 |
2014.12.10 |
申请号 |
CN201410443791.5 |
申请日期 |
2014.09.02 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
何理;许向辉 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
王宏婧 |
主权项 |
一种改善亮场机台缺陷扫描精度的方法,其特征在于,包括步骤:根据芯片结构划分出多个不同的区域;对划分出的区域分别进行灰阶收集,得到各个区域特征的灰阶分布曲线;分析不同区域的各种缺陷的信号分布情况,初步确定各个区域的影响良率的缺陷类型;对不同区域分别设定SAT参数,实现程式优化。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 |