发明名称 | 光调节装置 | ||
摘要 | 本发明提供一种即使光圈叶片的可动区域增加也能够抑制装置整体的尺寸的大型化的光调节装置。具有:第1基板(101)以及第2基板(121),分别形成有光学开口(102、122);至少一个光调节机构(130);间隔件(141),配置在第1基板与第2基板之间,形成光调节机构能够动作的空间;以及驱动机构(132、150),使配置在第1基板上的光调节机构动作;通过驱动机构使所述光调节机构动作,由此使光调节机构向从光学开口离开的第1静止位置和与光学开口重合的第2静止位置相互转动,对穿过光学开口的入射光进行调节;光调节机构在位于第1静止位置时,能够从第1基板及第2基板向外部突出。 | ||
申请公布号 | CN104204937A | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
申请号 | CN201380013144.4 | 申请日期 | 2013.04.17 |
申请人 | 奥林巴斯株式会社 | 发明人 | 冲田龙彦 |
分类号 | G03B9/02(2006.01)I | 主分类号 | G03B9/02(2006.01)I |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 徐殿军 |
主权项 | 一种光调节装置,其特征在于,具备:第1基板以及第2基板,分别形成有光学开口;至少一个光调节机构;间隔件,配置在所述第1基板与所述第2基板之间,形成所述光调节机构能够动作的空间;以及驱动机构,使配置在所述第1基板上的所述光调节机构动作;通过所述驱动机构使所述光调节机构动作,由此使所述光调节机构向从所述光学开口离开的第1静止位置和与所述光学开口重合的第2静止位置相互转动,对穿过所述光学开口的入射光进行调节;所述光调节机构在位于所述第1静止位置时,能够从所述第1基板以及所述第2基板向外部突出。 | ||
地址 | 日本东京 |