一种制备铟靶材金属薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种制备铟靶材金属薄膜的方法，添加一种或几种熔点高于铟的金属固溶或合金化于铟金属，改变了铟的物性而提高铟本身在物理气象的沉积方法，大大降低了前趋物金属薄膜的表面粗度，使其在硒化与硫化过程中可以降低吸收层的表面粗度，使制得吸收层成分均一，满足了生产的要求。

主权项

一种制备铟靶材金属薄膜的方法，其特征为：将铟金属中添加原子百分比为10% 的铜做成溅镀制程用的直径3寸的靶材，把所需镀着玻璃基材放入溅镀腔体中，以真空抽气系统将溅镀腔体背景压力抽至0.7×10^‑5‑0.9×10^‑5 torr后，利用氩气当作工作气体，透过节流阀将通入氩气控制溅镀腔体的工作压力为1×10^‑2torr，以直流功率100瓦进行60分钟的溅镀制程，制得平坦化铟金属薄膜。