发明名称 基板支撑装置、高温成膜工艺腔室及基板支撑杆
摘要 本实用新型涉及基板支撑技术领域,公开了一种基板支撑装置、高温成膜工艺腔室及基板支撑杆。所述基板支撑装置,包括多个基板支撑杆,每一个所述基板支撑杆朝向基板的一端的端面为凹凸面,所述凹凸面具有多个凸出的支撑面。在本实用新型技术方案中,由于基板支撑杆表面不是现有的平面形,而是具有多个支撑物,减小了与基板的接触面积,减少了热量的积累,因而减小了分子间作用力,从而减少了尖端颗粒,并且,多个支撑面之间具有凹陷部分,因而降低了尖端区与周围基板区的温度差异,进而减少了尖端斑点,因此,提高了产品的良率。
申请公布号 CN203999810U 申请公布日期 2014.12.10
申请号 CN201420176154.1 申请日期 2014.04.11
申请人 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 发明人 秦双亮;董杰;金相起;贠向南
分类号 C23C16/458(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I 主分类号 C23C16/458(2006.01)I
代理机构 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人 黄志华
主权项 一种基板支撑装置,其特征在于,包括多个基板支撑杆,每一个所述基板支撑杆朝向基板的一端的端面为凹凸面,所述凹凸面具有多个凸出的支撑面,所述凹凸面的支撑面与凹陷底面的距离为0.05~2毫米。 
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