| 发明名称 | 透明导电性膜及使用该膜的触摸屏 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种透明导电性膜以及使用该膜的触摸屏，该膜作为在高精细液晶显示器等显示体的前面使用的触摸屏用电极膜而使用时，具有优异的视觉辨认性的同时具有优异的生产率，并且具有优异的在边框附近的手写笔滑动耐久性。本发明的透明导电性膜是在由透明塑料膜构成的基材上依次层叠高折射率层、低折射率层以及透明导电性薄膜层而得的透明导电性膜，其中，高折射率层为氧化锡含有率为10质量％至60质量％的由非晶质铟-锡复合氧化物形成的无机薄膜，低折射率层由折射率为1.30～1.60的无机薄膜构成，透明导电性薄膜层由折射率为1.80～2.20的无机薄膜构成，并且透明导电性膜的分光透过率的峰存在于450nm～530nm，且总透光率为90％以上、颜色b值为-2～2。 | ||
| 申请公布号 | CN102648087B | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
| 申请号 | CN200980162011.7 | 申请日期 | 2009.10.19 |
| 申请人 | 东洋纺织株式会社 | 发明人 | 村上英生;大谷寿幸 |
| 分类号 | B32B7/02(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I;G06F3/045(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I | 主分类号 | B32B7/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 余刚;吴孟秋 |
| 主权项 | 一种透明导电性膜，所述透明导电性膜通过在由透明塑料膜构成的基材上依次层叠高折射率层、低折射率层及透明导电性薄膜层而得，其特征在于：高折射率层是氧化锡含有率为20质量%至60质量%的由非晶质铟‑锡复合氧化物形成的无机薄膜，低折射率层由折射率为1.30～1.60的无机薄膜构成，透明导电性薄膜层由折射率为1.80～2.20的无机薄膜构成，并且透明导电性膜的分光透过率的峰存在于450nm～530nm上，且总透光率为90%以上，颜色b值为‑2～2。 | ||
| 地址 | 日本大阪 | ||