发明名称 一种具有自适应偏置场板的高压MOS器件
摘要 本发明属于半导体技术领域,具体涉及到一种具有自适应偏置场板的高压MOS器件。本发明主的技术方案,与传统与固定电位连接的金属场板(如栅场板、漏场板以及源场板)相比,一方面,自偏置场板能削弱常规金属场板末端的电场尖峰,进一步优化器件表面电场的分布;更重要的是,自偏置场板的偏置电位可根据需要设定;因而,其提高器件耐压的效果更明显。另一方面,自偏置场板能增强对漂移区的辅助耗尽作用,高漂移区掺杂浓度以降低器件比导通电阻。该自偏置场板能应用于多种功率器件中。本发明尤其适用于高压MOS器件。
申请公布号 CN104201207A 申请公布日期 2014.12.10
申请号 CN201410472165.9 申请日期 2014.09.16
申请人 电子科技大学 发明人 罗小蓉;魏杰;熊佳云;李鹏程;杨超;石先龙;张波;李肇基
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 代理人 李玉兴
主权项 一种具有自适应偏置场板的高压MOS器件,包括第一导电类型半导体衬底(1)、位于第一导电类型半导体衬底(1)上层的第二导电类型半导体漂移区(2)和第一导电类型半导体体区(3)、位于第二导电类型半导体漂移区(2)和第一导电类型半导体体区(3)上层的场介质层(7);所述第一导电类型半导体体区(3)上层设置有相互独立的第一导电类型半导体体接触区(5)和第二导电类型半导体源区(4);第一导电类型半导体体接触区(5)和第二导电类型半导体源区(4)上表面设置有源电极(8);第二导电类型半导体漂移区(2)上层远离第一导电类型半导体体区(3)的一端设置有第二导电类型半导体漏区(6);第二导电类型半导体漏区(6)上表面设置有漏电极(10);所述源电极(8)和漏电极(10)之间设置有栅电极(9);所述栅电极(9)与第一导电类型半导体体区(3)和第二导电类型半导体源区(4)接触;其特征在于,还包括自适应偏置场板,所述自适应偏置场板由场板(11)和薄膜电阻(13)构成;其中,所述场板(11)与薄膜电阻(13)电气连接;所述场板(11)设置在场介质层(7)的上表面;所述薄膜电阻(13)的一端与源电极(8)电气连接,其另一端与漏电极(10)电气连接。
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