发明名称 |
包含抑制剂的无空隙亚微米结构填充用金属电镀组合物 |
摘要 |
本发明涉及一种包含金属离子源和至少一种抑制剂的组合物,所述抑制剂可通过使a)包含活性氨官能团的胺化合物与b)氧化乙烯与至少一种选自C<sub>3</sub>和C<sub>4</sub>氧化烯的化合物的混合物反应而获得,所述抑制剂具有6000g/mol或更高的分子量M<sub>w</sub>。 |
申请公布号 |
CN104195602A |
申请公布日期 |
2014.12.10 |
申请号 |
CN201410322845.2 |
申请日期 |
2010.03.29 |
申请人 |
巴斯夫欧洲公司 |
发明人 |
C·勒格尔-格普费特;R·B·雷特尔;C·埃姆内特;A·哈格;D·迈耶 |
分类号 |
C25D3/38(2006.01)I |
主分类号 |
C25D3/38(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
肖威;刘金辉 |
主权项 |
一种包含金属离子源和至少一种抑制剂的组合物,所述抑制剂可通过使a)与b)反应而获得:a)含有活性氨官能团的胺化合物,b)氧化乙烯与至少一种选自C<sub>3</sub>和C<sub>4</sub>氧化烯的化合物的混合物,所述抑制剂具有6000g/mol或更高的分子量M<sub>w</sub>,且其中氧化乙烯与其他C<sub>3</sub>‑C<sub>4</sub>氧化烯的共聚物中的氧化乙烯含量为30%至小于35%。 |
地址 |
德国路德维希港 |