发明名称 |
高效PID Free的太阳能多晶硅电池的钝化减反射膜 |
摘要 |
本实用新型涉及一种高效PID Free的太阳能多晶硅电池的钝化减反射膜,所述钝化减反射膜底层为SiO<sub>2</sub>层1,折射率为1.45-1.58,厚度为2-30nm,中间层为高折射率钝化SiNx层,折射率为2.00-2.40,厚度为2-30nm,顶层为电性能优化SiNx层,折射率为1.90-2.25,厚度为4-50nm。该高效PID Free的太阳能多晶硅电池的钝化减反射膜既可以优化多晶硅电池的电性能,又可以从电池端有效地降低PID衰减,可以提高转换效率15-20%,具有较大的经济效益。 |
申请公布号 |
CN204011441U |
申请公布日期 |
2014.12.10 |
申请号 |
CN201320858290.4 |
申请日期 |
2013.12.24 |
申请人 |
江苏顺风光电科技有限公司 |
发明人 |
瞿辉;徐春;曹玉甲;张一源 |
分类号 |
H01L31/0216(2014.01)I |
主分类号 |
H01L31/0216(2014.01)I |
代理机构 |
南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 |
代理人 |
柏尚春 |
主权项 |
一种高效PID Free的太阳能多晶硅电池的钝化减反射膜,其特征在于:所述钝化减反射膜底层为SiO<sub>2</sub>层(1),SiO<sub>2</sub>层(1)折射率为1.45‑1.58,厚度为8‑20nm,钝化减反射膜中间层为高折射率钝化SiNx层(2),高折射率钝化SiNx层(2)折射率为2.00‑2.40,厚度为2‑30nm,钝化减反射膜顶层为电性能优化SiNx层(3),电性能优化SiNx层(3)折射率为2.0‑2.25,厚度为4‑50nm。 |
地址 |
213000 江苏省常州市武进区高新技术产业开发区阳湖路99号 |