用于EUV波长范围的反射镜、包括这种反射镜的用于微光刻的投射物镜、以及包括这种投射物镜的用于微光刻的投射曝光设备

摘要

本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜(1a；1b；1c)，所述反射镜包括基底(S)和层布置，其中所述层布置包括多个层子系统(P”、P”’)，每个层子系统由单独层的至少两个周期(P₂、P₃)的周期序列构成，其中所述周期(P₂、P₃)包括作为高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)的两个单独层，高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)由不同材料构成，并且在每个层子系统(P”、P”’)内具有恒定厚度(d₂、d₃)，所述恒定厚度(d₂、d₃)与相邻层子系统的周期的厚度偏离。所述反射镜的特征在于第二远离所述基底(S)的层子系统(P”)具有周期(P₂)的序列，使得最远离基底(S)的层子系统(P”’)的第一个高折射率层(H”’)直接接续第二远离所述基底的层子系统(P”)的最后一个高折射率层(H”)，并且/或者，最远离所述基底(S)的层子系统(P”’)的周期(P₃)的数目(N₃)大于第二远离所述基底(S)的层子系统(P”)的周期(P₂)的数目(N₂)。本发明还涉及包括这种反射镜(1a；1b；1c)的用于微光刻的投射物镜，并且还涉及包括这种投射物镜的投射曝光设备。

主权项

一种用于EUV波长范围的反射镜(1a；1b；1c)，所述反射镜包括基底(S)和层布置，其中所述层布置包括多个层子系统(P”、P”’)，每个层子系统由单独层的至少两个周期(P₂、P₃)的周期序列构成，其中所述周期(P₂、P₃)包括作为高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)的两个单独层，所述高折射率层(H”、H”’)和所述低折射率层(L”、L”’)由不同材料构成，并且所述周期(P₂、P₃)在每个层子系统(P”、P”’)内具有恒定厚度(d₂、d₃)，所述恒定厚度(d₂、d₃)与相邻层子系统的周期的厚度偏离，其特征在于：第二远离基底(S)的层子系统(P”)具有所述周期(P₂)的序列，使得最远离所述基底(S)的层子系统(P”’)的第一个高折射率层(H”’)直接接续第二远离基底的层子系统(P”)的最后一个高折射率层(H”)。