发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 <p>본 발명은 기판 승강 부재의 승강 동작이 규제되고 있지 않을 때에, 톱 플레이트가 하강한 상태에서 기판 승강 부재를 상측 위치로 상승시켜도, 리프트핀이 파손되는 것을 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 미리 정해진 처리 위치에 배치되어 있는 기판(W)에 처리액을 공급하고, 공급된 처리액에 의해 기판(W)을 처리하는 본 발명의 기판 처리 장치(22)는, 기판(W)을 처리 위치와 처리 위치보다도 상측의 위치 사이에서 승강 가능하게 설치되어 있는 기판 승강 부재(90)와, 기판 승강 부재(90)로부터 상측으로 돌출되어 설치되어 있고, 승강시키는 기판(W)이 배치되는 배치부(91b)와, 처리 위치에 배치되어 있는 기판(W)의 상측에 승강 가능하게 설치되어 있으며, 하강하고 있는 상태에서 기판(W)을 상측으로부터 덮는 상판부(110)와, 상판부(110)에 설치되고, 기판 승강 부재(90)가 상판부(110)에 접촉할 때에, 배치부(91b)와 상판부(110)의 접촉을 방지하는 접촉 방지부(130)를 구비한다.</p>
申请公布号 KR101470686(B1) 申请公布日期 2014.12.08
申请号 KR20110006361 申请日期 2011.01.21
申请人 发明人
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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