发明名称 EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 <p>액침 영역 (14) 이 형성되는 투영 광학계 (PL) 의 하방의 영역에, 일방의 웨이퍼 스테이지 (WST1) 가 위치하는 상태로부터 타방의 웨이퍼 스테이지 (WST2) 가 위치하는 상태로 이행시킬 때에, 양 웨이퍼 스테이지 (WST2, WST1) 를, 각각에 형성된 차양부 (23a') 와 단차부 (23b) 를 걸어맞추어, X 축 방향에 대해 어긋난 상태에서, Y 축 방향으로 근접 또는 접촉시키고, 그 상태를 유지하여 Y 축 방향으로 동시에 구동시킨다. 이로써, 액침 영역이 차양부를 통해 2 개의 웨이퍼 스테이지 사이에서 수수하여, 액침 영역을 형성하는 액체의 누출을 억제한다.</p>
申请公布号 KR101470671(B1) 申请公布日期 2014.12.08
申请号 KR20097025768 申请日期 2008.11.04
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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