| 摘要 |
同一平面プロセス流体圧力センサモジュール（１９２；２９２）が提供される。モジュールは、同一平面ベース（１９４；２９４）およびハウジング本体（１９６；２９６）を含む。同一平面ベース（１９４；２９４）は、その各々がアイソレータダイアフラム（１１０）を有する一対のプロセス流体圧力入口を有する。ハウジング本体（１９６；２９６）は、同一平面ベース（１９４；２９４）とハウジング本体（１９６；２９６）との間の接合部分において同一平面ベースに結合される。差圧センサ（１４０）は、一対のプロセス流体圧力入口に動作可能に結合され、同一平面ベース（１９４；２９４）に近接してハウジング本体（１９６；２９６）内に配置される。 |
