发明名称 EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 <p>스테이지 (WST2) 상에, 2 개의 X 헤드 (EX및 EX) 와 하나의 Y 헤드 (EY) 를 탑재하고, 이들 헤드에 대응하는 X 스케일 (SX) 과 Y 스케일 (SY) 을, 그 스케일들이 노광 영역과 얼라인먼트 영역을 연결하도록, 스테이지 (WST2) 에 대향하여 설치한다. 3 개의 인코더 헤드 (EX, EX, EY) 를 이용하여 위치 계측을 수행하면서, 스테이지 (WST2) 를, 스케일 (SX, SY) 의 설치 경로에 따라, 노광 영역과 얼라인먼트 영역 사이를 왕래시킨다. 따라서, XZ 간섭계 (116, 117) 사이, 및 XZ 간섭계 (126, 127) 사이의 전환 처리가 불필요하게 되고, 또한, XY 평면 내에서 이동하는 스테이지의 위치를, 계측 영역의 상이한 2 개의 위치 계측 시스템을 이용하여 안정적인 방식으로 고정밀도로 계측하는 것이 가능하게 된다.</p>
申请公布号 KR101470682(B1) 申请公布日期 2014.12.08
申请号 KR20107008458 申请日期 2008.12.12
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;G03F9/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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