| 摘要 |
본 발명의 이온 밀링 장치는, 진공 챔버(15) 내에 배치되며 이온 빔에 직교하는 제1 축에 평행한 경사 축을 갖는 경사 스테이지(8)와, 상기 제1 축에 직교하는 제2 축에 평행한 회전 축 및 경사 축을 갖고 시료(3)를 회전 또는 경사지게 하는 구동 기구(9, 51)와, 상기 경사 스테이지를 경사지게 하면서 시료를 회전 또는 왕복 경사지게 하여 이온 빔을 조사하는 상태와, 상기 경사 스테이지를 비경사 상태로 함과 함께 상기 시료를 왕복 경사지게 하여 이온 빔을 조사하는 상태를 전환하는 것을 가능하게 하는 전환부를 구비하고 있다. 이에 의해, 동일한 진공 챔버 내에서 시료의 단면 가공과 평면 가공을 행하는 것이 가능한 이온 밀링 장치가 실현되었다. |
