发明名称 Gas distribution assembly and chemical vapor deposition apparatus including gas distribution plate expanded
摘要 <p>확장된 가스분배판을 포함하는 가스 분배 조립체 및 화학 기상 증착 장치가 개시된다. 본 발명은, 후방 플레이트; 상기 후방 플레이트의 하부에 배치되고, 다수의 분사 홀을 구비한 가스분배판; 및 상기 후방 플레이트에 연결하여 상기 가스분배판을 지지하는 지지부재;를 포함하며, 상기 가스분배판은 네 개의 측면과 상기 네 개의 측면 사이에 형성되는 모서리부에 외측 방향으로 연장되어 형성된 확장부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 대형화 기판에 대하여 기판의 표면 전 영역에 균일한 두께의 증착막을 형성시킬 수 있다.</p>
申请公布号 KR101468540(B1) 申请公布日期 2014.12.05
申请号 KR20120117934 申请日期 2012.10.23
申请人 发明人
分类号 C23C16/44;C23C16/455 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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