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<p>본 발명은 표시 장치 및 그 표시판의 제조 방법에 관한 것으로, 기판 위에 게이트 전극을 포함하는 게이트선을 형성하는 단계, 상기 게이트 전극 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막 위에 진성 반도체를 형성하는 단계, 상기 반도체 위에 불순물 반도체를 형성하는 단계, 상기 불순물 반도체 위에 소스 전극을 포함하는 데이터선 및 드레인 전극을 형성하는 단계, 그리고 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극으로 덮이지 않은 상기 불순물 반도체의 일부를 플라즈마 처리하여 보호 부재를 형성하는 단계를 포함한다. 이렇게 함으로써 불순물 반도체를 식각하는 공정과 진성 반도체를 보호하기 위한 무기 절연막 형성 공정을 생략하여 공정의 간략화를 꾀할 수 있다.</p> |
