TAMPON DE POLISSAGE CHIMIQUE MECANIQUE A FENETRE, SOUPLE ET CONDITIONNABLE

摘要

Il est mis à disposition un tampon de polissage chimique mécanique contenant : une couche de polissage ; un bloc-fenêtre de détection de point limite encastré ; une couche rigide ; et un adhésif thermofusible collant la couche de polissage à la couche rigide ; dans lequel la couche de polissage comprend le produit de la réaction d'ingrédients comprenant : un isocyanate polyfonctionnel ; et un système durcisseur ; dans lequel le système durcisseur contient un durcisseur polyol amorcé par une amine et un durcisseur polyol de masse moléculaire élevée ; dans lequel la couche de polissage présente une densité supérieure à 0,6 g/cm3 ; une dureté Shore D de 5 à 40 ; un allongement à la rupture de 100 à 450 % ; et une vitesse de coupe de 25 à 150 µm/h ; et dans lequel la couche de polissage a une surface de polissage adaptée au polissage du substrat. Il est également mis à disposition des procédés pour produire et utiliser le tampon de polissage chimique mécanique.