发明名称 Epitaktische Technik zum Reduzieren von Schraubenversetzungen in unter Spannung befindlichen Halbleiterverbundstoffen
摘要 Eine Lösung zum Herstellen einer Halbleiterstruktur wird bereitgestellt. Die Halbleiterstruktur umfasst eine Mehrzahl von Halbleiterschichten, die unter Verwendung eines Satzes an epitaktischen Wachstumsperioden über ein Substrat gewachsen sind. Während jeder epitaktischen Wachstumsperiode wächst eine erste Halbleiterschicht mit einem aus: einer Zugspannung oder einer Kompressionsspannung, gefolgt durch das Wachstum einer zweiten Halbleiterschicht mit dem anderen aus: der Zugspannung oder der Kompressionsspannung direkt auf der ersten Halbleiterschicht. Eines oder mehrere aus einem Satz an Wachstumsbedingungen, einer Dicke von einer oder beiden Schichten und/oder einer Gitterfehlanpassung zwischen den Schichten kann eingestellt werden, um eine Zielhöhe der Kompressions- und/oder Scherspannung innerhalb eines Minimalprozentbereichs der Schnittstelle zwischen den Ebenen zu erzeugen.
申请公布号 DE112013000798(T5) 申请公布日期 2014.12.04
申请号 DE20131100798T 申请日期 2013.02.01
申请人 SENSOR ELECTRONIC TECHNOLOGY, INC. 发明人 SHATALOV, MAXIM S.;DOBRINSKY, ALEXANDER;GASKA, REMIGIJUS;SHUR, MICHAEL;SUN, WENHONG;JAIN, RAKESH;YANG, JINWEI
分类号 H01L21/20;H01L33/00 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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