| 摘要 |
<p>본 발명은 DLC 패턴을 포함하는 포토 마스크에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 필름 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트층 상에 패턴이 형성된 미세 패턴층을 형성하는 단계, UV광을 조사하여 상기 포토레지스트층 상에 패턴이 형성되는 단계, 상기 미세 패턴층을 제거하는 단계, 상기 필름 및 상기 패턴이 형성된 포토레스트층 상에 DLC층을 형성하는 단계 및 상기 포토레지스트층을 제거함으로써, 상기 포토레지스트층 상의 DLC층을 함께 제거하는 포토레지스트층 제거 단계를 포함하는 포토 마스크 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 DLC 패턴을 포함하는 포토 마스크 및 그 제조방법은 미세패턴 구현이 가능하고, 광차단막 두께가 150nm이하로 구현되기 때문에 패턴측벽의 CD(Critical Dimension)를 균일하게 구현할 수 있다.</p> |
