发明名称 反射電子ビームリソグラフィ用リニアステージ
摘要 REBLに好適なスタック型リニアステージは、第1の複数のウェハを第1の軸に沿って第1の方向に平行移動させるように構成された第1の上部高速ステージであって、第1の複数のウェハを固定するように構成された第1の上部高速ステージと、第2の複数のウェハを前記第1の軸に沿って前記第1の方向とは逆方向の第2の方向に平行移動させるように構成され、前記第2の複数のウェハを固定するように構成された第2の上部高速ステージであって、前記第1の上部高速ステージの平行移動と前記第2の上部高速ステージの平行移動とは前記第1の上部高速ステージと第2の上部高速ステージの動きによって生じる慣性反力を実質的に打ち消すように構成された第2の上部高速ステージと、第1および第2の上部高速ステージを第2の軸に沿って平行移動させるように構成された搬送ステージとを含むことができる。
申请公布号 JP2014532298(A) 申请公布日期 2014.12.04
申请号 JP20140529845 申请日期 2012.09.06
申请人 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 发明人 ウンメサラ ウペンドラ;ヘール レイトン;クライン ジョシュア;ネイフェイ サミル;ウィリアムズ マーク;ディレゴロ ジョゼフ;ウィルソン アンドリュー
分类号 H01L21/027;H01L21/68 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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