发明名称 Oxide semiconductor and thin film transistor comprising the same
摘要 <p>본 발명은 산화물 반도체 및 이를 포함하는 박막 트랜지스터에 관한 것이다. Zn, In 및 Hf을 포함하며, Zn, In 및 Hf 원자의 전체 함량 대비 Hf 원자 함량의 조성비가 2 내지 16 at%인 산화물 반도체 및 이를 포함하는 박막 트랜지스터를 제공한다.</p>
申请公布号 KR101468591(B1) 申请公布日期 2014.12.04
申请号 KR20080050466 申请日期 2008.05.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/20;H01L29/786 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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