发明名称 一种氧化物半导体薄膜晶体管
摘要 本发明涉及一种氧化物半导体薄膜晶体管,在所述源漏金属电极层与所述源漏极区域接触的区域引入氢浓度分布。在所述源极金属电极层与所述源极区域界面处,以及所述漏极金属电极与所述漏极区域的界面处引入的氢浓度最高,并且在远离界面处的方向上引入的氢浓度逐渐变小。进一步的,在靠近所述沟道区域的所述源漏区域部分没有覆盖所述源漏极金属电极层,且在所述源漏金属电极层远离所述源漏区域的一端以及沟道区域内没有引入的氢浓度分布,本发明在不导致氧化物薄膜晶体管性能下降的情况下,能够有效降低氧化物半导体薄膜晶体管的串联电阻。
申请公布号 CN104183650A 申请公布日期 2014.12.03
申请号 CN201410456678.0 申请日期 2014.09.10
申请人 六安市华海电子器材科技有限公司 发明人 司红康;金一琪
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种薄膜晶体管,包括绝缘衬底;位于绝缘衬底上的栅极电极层;位于绝缘衬底上覆盖所述栅极电极层的栅极绝缘层;氧化物半导体层形成于栅极绝缘层上,并包括与栅极电极层正对的沟道区域和位于沟道区域两端的源漏极区域;源漏金属电极层,位于源漏极区域上;其特征在于:在所述源漏金属电极层与所述源漏极区域接触的区域引入氢浓度分布。
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