发明名称 |
一种磁传感装置的制备工艺 |
摘要 |
本发明揭示了一种磁传感装置的制备工艺,所述制备工艺包括如下步骤:步骤S1:在基底上沉积绝缘的介质材料;步骤S2:依次沉积磁性材料和电极材料,电极材料层同时作为磁性材料的保护层;步骤S3:甩涂光刻胶,曝光,显影;步骤S4:刻蚀,去除多余部分的电极材料、磁性材料,并去除光刻胶;步骤S5:在刻蚀完成后,采用等离子体对圆晶进行清洗,随后在不破坏真空的情况下进行Ta<sub>x</sub>N<sub>y</sub>材料的沉积,其中,x<y;Ta<sub>x</sub>N<sub>y</sub>材料用于保护经刻蚀露出的磁性材料的侧壁,避免其被氧化;步骤S6:沉积第二电极层,并进行图形化。本发明提出的磁传感装置的制备工艺,通过在电极材料层上设置一层Ta<sub>x</sub>N<sub>y</sub>材料,可有效防止磁性材料侧壁部分被氧化,从而提高磁传感装置的性能。 |
申请公布号 |
CN104183696A |
申请公布日期 |
2014.12.03 |
申请号 |
CN201310188211.8 |
申请日期 |
2013.05.20 |
申请人 |
上海矽睿科技有限公司 |
发明人 |
万旭东;张挺 |
分类号 |
H01L43/12(2006.01)I;G01R33/09(2006.01)I |
主分类号 |
H01L43/12(2006.01)I |
代理机构 |
上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 |
代理人 |
王松 |
主权项 |
一种磁传感装置的制备工艺,其特征在于,所述制备工艺包括如下步骤: 步骤S1:在基底上沉积绝缘的介质材料; 步骤S2:依次沉积磁性材料和电极材料,电极材料层同时作为磁性材料的保护层; 步骤S3:甩涂光刻胶,曝光,显影; 步骤S4:刻蚀,去除多余部分的电极材料、磁性材料,并去除光刻胶; 步骤S5:在刻蚀完成后,采用等离子体对圆晶进行清洗,随后在不破坏真空的情况下进行高阻值材料的沉积,;高阻值材料用于保护经刻蚀露出的磁性材料的侧壁,避免其被氧化; 步骤S6:沉积第二电极层,并进行图形化。 |
地址 |
201815 上海市嘉定区兴贤路1368号3幢3157号 |