发明名称 |
化学机械研磨之研磨垫的清洗装置及其方法 |
摘要 |
一种化学机械研磨之研磨垫的清洗装置,包括:研磨液分配手臂,所述研磨液分配手臂固定设置在研磨机台上,并位于具有研磨垫的研磨台之上方,且所述研磨液分配手臂之临近所述研磨垫的一侧间隔设置与去离子水连通的喷嘴,所述喷嘴呈扇形布置,并与所述研磨垫所在的平面之夹角α≤30°倾斜设置。本发明化学机械研磨之研磨垫的清洗装置通过在所述研磨液分配手臂之临近研磨垫的一侧间隔设置与去离子水连通的喷嘴,且所述喷嘴呈扇形布置,并与所述研磨垫所在的平面之夹角α≤30°倾斜设置,不仅可增大去离子水与所述研磨垫之表面的接触面积,而且加强水流之力度,达到高清洁之功效。 |
申请公布号 |
CN104175224A |
申请公布日期 |
2014.12.03 |
申请号 |
CN201410422525.4 |
申请日期 |
2014.08.26 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
丁弋;朱也方 |
分类号 |
B24B53/017(2012.01)I |
主分类号 |
B24B53/017(2012.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
王宏婧 |
主权项 |
一种化学机械研磨之研磨垫的清洗装置,其特征在于,所述化学机械研磨之研磨垫的清洗装置,包括:研磨液分配手臂,所述研磨液分配手臂固定设置在研磨机台上,并位于具有研磨垫的研磨台之上方,且所述研磨液分配手臂之临近所述研磨垫的一侧间隔设置与去离子水连通的喷嘴。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 |