| 发明名称 | 用于电极基底的层压设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于电极基底的层压设备。所述层压设备包括：移送辊，被构造成移送电极基底；层压部分，被构造成给由所述移送辊移送的电极基底涂覆绝缘带；切割单元，被构造成切割形成于所述电极基底上的所述绝缘带的多余部分，所述多余部分从所述电极基底突出来。所述切割单元设置在所述层压部分和卷绕部分之间并连接到所述移送辊，以与所述移送辊一起运动。 | ||
| 申请公布号 | CN102544568B | 申请公布日期 | 2014.12.03 |
| 申请号 | CN201110220741.7 | 申请日期 | 2011.08.03 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 李濬燮;全笔句;崔在铭 |
| 分类号 | H01M10/04(2006.01)I;H01M4/04(2006.01)I;H01M10/058(2010.01)I | 主分类号 | H01M10/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 韩明星;刘奕晴 |
| 主权项 | 一种层压设备，包括：移送辊，被构造成移送电极基底；层压部分，被构造成给由所述移送辊移送的电极基底涂覆绝缘带；切割单元，被构造成通过利用切割单元的旋转轴的旋转运动来切割形成于所述电极基底上的所述绝缘带的多余部分，所述多余部分从所述电极基底突出来，其中，所述切割单元设置在所述层压部分和卷绕部分之间，并且所述切割单元的旋转轴连接到所述移送辊，以与所述移送辊一起运动。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道龙仁市 | ||