发明名称 |
蒸发镀膜装置 |
摘要 |
本发明公开一种蒸发镀膜装置,涉及蒸发镀膜技术领域,解决了由于加热用线源越来越长,导致有机材料在基板表面成膜的均一性变差的问题。所述蒸发镀膜装置,包括:柱状体,其包括表面设有凹槽的筒体,以及与筒体匹配套装的中空套筒,凹槽沿筒体中心线方向延伸设置,且凹槽内设有多个间隔设置的隔间,中空套筒顶端区域设有第一蒸发孔;坩埚,其包括一端敞口、四周密封的本体,以及与本体匹配连接的盖罩,且盖罩上设有第二蒸发孔,本体置于隔间内;加热体,其为中空柱状结构,且柱状体位于加热体内部,加热体上设有喷嘴;内加热丝,其连接有控制单元,且内加热丝设在隔间位置处;外加热丝,其设在加热体外表面。本发明主要用于大尺寸显示器的制作。 |
申请公布号 |
CN104178734A |
申请公布日期 |
2014.12.03 |
申请号 |
CN201410347668.3 |
申请日期 |
2014.07.21 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
赵德江;王路;藤野诚治 |
分类号 |
C23C14/26(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/26(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种蒸发镀膜装置,其特征在于,包括:柱状体,所述柱状体包括表面设有凹槽的筒体,以及与所述筒体匹配套装的中空套筒;所述凹槽沿所述筒体中心线方向延伸设置,且所述凹槽内设有多个间隔设置的隔间;所述中空套筒顶端区域设有第一蒸发孔;坩埚,所述坩埚包括一端敞口、四周密封的本体,以及与所述本体匹配连接的盖罩,且所述盖罩上设有与所述第一蒸发孔相对应的第二蒸发孔;所述本体置于所述隔间内;加热体,所述加热体为中空柱状结构,且所述柱状体位于所述加热体内部;所述加热体上设有与所述第一蒸发孔相对应的喷嘴;内加热丝,所述内加热丝连接有控制单元,且所述内加热丝设在所述隔间位置处;外加热丝,所述外加热丝设在所述加热体外表面。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |