发明名称 多环形自适应抛光磨头
摘要 本发明公开了一种多环形自适应抛光磨头,属于光学冷加工技术领域。解决了现有非球面抛光技术中磨头表面与工件表面不匹配、无法抑制中频误差的问题。本发明的多环形自适应抛光磨头包括法兰轴、多环刚性基底、柔性环和抛光环,其中,法兰轴的底端固定在多环刚性基底的顶端,多环刚性基底的底端设有具有相同圆心的多个圆环形凸台,柔性环可以柔性变形,柔性环由多个同心圆环组成,柔性环的顶端固定在多个圆环形凸台上,抛光环由多个同心圆环组成,抛光环的顶端固定在柔性环的底端上。本发明的磨头能够通过柔性环的柔性变形,自动补偿由机床、装调或工件本身带来的误差,实现非球面的高质量抛光。
申请公布号 CN104175192A 申请公布日期 2014.12.03
申请号 CN201410390349.0 申请日期 2014.08.08
申请人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发明人 张健;马占龙;代雷;彭利荣;隋永新;杨怀江
分类号 B24B13/01(2006.01)I 主分类号 B24B13/01(2006.01)I
代理机构 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人 王丹阳
主权项 多环形自适应抛光磨头,包括法兰轴(1),其特征在于,还包括,多环刚性基底(3)、柔性环(4)和抛光环(5);所述法兰轴(1)的底端固定在多环刚性基底(3)的顶端;所述多环刚性基底(3)的底端设有具有相同的圆心且按照半径从小到大,从内到外依次排列的多个圆环形凸台;所述柔性环(4)可以柔性变形,柔性环(4)由具有相同的圆心且按照半径从小到大,从内到外依次排列的多个圆环组成,柔性环(4)的顶端固定在圆环形凸台的底端;所述抛光环(5)由具有相同的圆心且按照半径从小到大,从内到外依次排列的多个圆环组成,抛光环(5)的顶端固定在柔性环(4)的底端上,所述抛光环(5)的多个圆环的底面具有相同的曲率半径。
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