| 发明名称 | 研磨组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供使研磨速度提高并使表面粗糙度降低的研磨组合物。本发明的研磨组合物包含：化合物，其在下述通式(1)所示的嵌段聚醚中至少包含氧乙烯基或氧丙烯基；碱性化合物；以及研磨剂，＞N-R-N＜...(1)其中，R表示由C<sub>n</sub>H<sub>2n</sub>表示的亚烷基，n为大于1的整数。 | ||
| 申请公布号 | CN102089866B | 申请公布日期 | 2014.12.03 |
| 申请号 | CN200980127160.X | 申请日期 | 2009.07.13 |
| 申请人 | 霓达哈斯股份有限公司 | 发明人 | 松下隆幸;杉田规章 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人 | 王达佐;阴亮 |
| 主权项 | 研磨组合物，其包含：化合物，其包含下述通式(1)所示的具有两个氮原子的烷基胺结构以及至少一个与所述烷基胺结构中的两个氮原子中的一个氮原子结合的嵌段聚醚，所述嵌段聚醚含有氧乙烯基及氧丙烯基；碱性化合物；以及研磨剂，其中所述嵌段聚醚含有选自下述通式(2)至(5)所示的醚基中的至少一种并且所述醚基中的氧乙烯基的数值a大于1并小于500，氧丙烯基的数值b大于1并小于200，＞N‑R‑N＜...(1)其中，R表示C<sub>n</sub>H<sub>2n</sub>所示的亚烷基，n为大于1的整数，‑[(EO)a‑(PO)b]x‑H...(2)‑[(PO)b‑(EO)a]x‑H...(3)‑(EO)a‑[(PO)b‑(EO)a]x‑H...(4)‑(PO)b‑[(EO)a‑(PO)b]x‑H...(5)其中，EO表示氧乙烯基，PO表示氧丙烯基，并且a、b和x各自表示大于1的整数。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||