发明名称 |
液压转印用基膜 |
摘要 |
本发明的课题在于,提供一种从卷中抽出时难以断裂的液压转印用基膜及其制造方法。其解决方法在于:液压转印用基膜1,沿厚度方向测定裁切剖面3的表面粗糙度时,在最大峰高度(Rp)为5μm以上的情况下,赋予该最大峰高度(Rp)的位置5位于距离厚度方向的单侧为20~80%的位置,在最大峰高度(Rp)不足5μm的情况下,算术平均高度(Ra)为2μm以下;一种液压转印用基膜的制造方法,其包括使用剪切刀片来裁切膜的工序,上刀片的刀尖角度为30~90°,上刀片与下刀片的重叠量为0.1~0.8mm,夹角为2~100°,上刀片没有驱动;以及,一种液压转印用基膜的制造方法,其包括使用剃刀刀片进行裁切的工序,剃刀刀片的刀尖的最大高度(Rz)不足1μm。 |
申请公布号 |
CN104185559A |
申请公布日期 |
2014.12.03 |
申请号 |
CN201380014947.1 |
申请日期 |
2013.03.06 |
申请人 |
株式会社可乐丽 |
发明人 |
高藤胜启;矶崎孝德;练苧乔士;秦秀行;笹井弘治 |
分类号 |
B44C1/175(2006.01)I;B26D1/02(2006.01)I;B26D1/24(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I |
主分类号 |
B44C1/175(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
高旭轶;万雪松 |
主权项 |
液压转印用基膜,其中,沿厚度方向测定裁切剖面的表面粗糙度时,在最大峰高度(Rp)为5μm以上的情况下,赋予该最大峰高度(Rp)的位置位于距离厚度方向的单侧为20~80%的位置,在最大峰高度(Rp)不足5μm的情况下,算术平均高度(Ra)为2μm以下。 |
地址 |
日本冈山县仓敷市酒津1621番地 |