摘要 |
본 발명은 적어도 하나의 공작물(12, 25)에 환형 레이저 포커스(26)를 제공하는 적어도 하나의 레이저 빔 소스(2)를 구비한 레이저 빔 가공 장치(1)에 관한 것이다. 본 발명에 따라, 공작물(12, 25)에 의해 반사된 레이저 방사선(20)을 센서 유닛(24) 상에서 이미지화 하기 위한 수단이 제공된다. 또한, 본 발명은 적어도 하나의 공작물(12, 25)에 대해 환형 레이저 포커스(26)의 포커스 위치를 조정하는 방법에 관한 것이다. |