发明名称 INDUCTIVELY COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS
摘要 <p>본 발명에 따른 유도 결합 플라즈마 처리 장치는 내부에 공정 공간을 형성하는 챔버, 상기 공정 공간 상부에 설치된 유전체 창 외부 상측에 설치된 소스 코일, 상기 소스 코일의 상부에 설치되는 리드, 상기 소스 코일과 상기 리드 사이에 설치되며 다수개의 설치홀이 형성되고, 접지 처리된 접지판, 상기 설치홀에 관통하여 장착되며, 상기 소스 코일에 연결되어 임피던스 제어를 위하여 동작하고, 상기 접지판에 접지된 가변 커패시터를 포함하는 것으로, 이러한 본 발명에 따른 유도 결합 플라즈마 처리 장치는 복수개의 소스 코일에 대한 임피던스 제어가 효과적으로 이루어지도록 각각의 소스 코일에 연결되어 임피던스 조절을 수행하는 가변 커패시터들의 동작을 모터로 정밀하게 제어하고, 또한 복수개의 가변 커패시터들에 대한 정밀한 자동 제어가 가능하도록 하는 효과가 있다.</p>
申请公布号 KR101468657(B1) 申请公布日期 2014.12.03
申请号 KR20120156693 申请日期 2012.12.28
申请人 发明人
分类号 H03H7/40;H05H1/46 主分类号 H03H7/40
代理机构 代理人
主权项
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