晶粒附接薄膜及其制造方法

摘要

本发明提供一种晶粒附接薄膜及其制造方法。该方法包含：提供一于其上带有该附接层的切割薄膜层，该切割薄膜层系由光可固化黏结剂组合物所制备且包括一附接层区域，其与该附接层重叠使得该附接层阻挡氧气内流进入该附接层区域，以及一环形框架区域，该环形框架区域具有邻接该附接层且系暴露于空气或一氧气氛围使得氧气流动进入该环形框架区域的上表面；并且对该切割薄膜层的背面辐照UV光以诱发该附接层区域的光固化，而在该环形框架区域中的氧气系作为自由基清除剂且抑制该环形框架区域的光固化。

主权项

一种制造晶粒附接薄膜的方法，该晶粒附接薄膜包括一用以附接至一晶圆的附接层，该方法包含：提供一于其上带有该附接层的切割薄膜层，该切割薄膜层系由光可固化黏结剂组合物所制备且包括：一附接层区域，其与该附接层重叠使得该附接层阻挡氧气内流进入该附接层区域，以及一环形框架区域，该环形框架区域具有邻接该附接层且系暴露于空气或一氧气氛围使得氧气流动进入该环形框架区域的上表面；并且对该切割薄膜层的背面辐照UV光以诱发该附接层区域的光固化，而在该环形框架区域中的氧气系作为自由基清除剂且抑制该环形框架区域的光固化。