荷电粒子射束描绘装置、对试料面之射束入射角调整方法、及荷电粒子射束描绘方法

摘要

本发明之一态样之荷电粒子射束描绘装置之特征为具备有：放出部，其系放出荷电粒子射束；电子透镜，其系使前述荷电粒子射束收敛；遮蔽偏向器，其系相对于光轴方向被配置在比电子透镜更为后侧，若进行切换射束ON与射束OFF的遮蔽控制时，将荷电粒子射束进行偏向；遮蔽孔隙构件，其系相对于光轴方向被配置在比遮蔽偏向器更为后侧，遮蔽以成为射束OFF的状态的方式被偏向的荷电粒子射束；及电磁线圈，其系被配置在遮蔽偏向器的中心高度位置，将荷电粒子射束进行偏向。