用于已曝光基板的自动重工之微影群组、方法及控制单元;LITHOGRAPHY CLUSTER, METHOD AND CONTROL UNIT FOR AUTOMATIC REWORK OF EXPOSED SUBSTRATES

摘要

一种微影群组，其包含一涂布显影系统单元、一微影装置、一度量衡单元、一控制单元及一剥离单元。该涂布显影系统单元用于将一层施加于一基板上以供微影曝光。该微影装置用于根据一图案来曝光该层。该度量衡单元用于量测该层中之该已曝光图案之一属性。该控制单元用于控制该涂布显影系统单元、该微影装置与该度量衡单元之间的一自动基板流动。该剥离单元用于自该基板移除该层。该控制单元经建构及配置以用于基于该测定属性来控制该自动基板流动，使得若该层之图案之一测定属性不属于一预定品质范围，则将该基板引导至该剥离单元以用于移除该层。