| 发明名称 |
导电膜形成用组成物及使用其的导电膜的制造方法;COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE FILM AND METHOD OF PRODUCING CONDUCTIVE FILM BY USING THE SAME |
| 摘要 |
本发明提供一种可形成导电性优异、且空隙少的导电膜的导电膜形成用组成物，其含有氧化铜粒子(A)、作为铜前驱物的铜错合物(B)、热塑性聚合物(C)、及溶剂(D)，铜错合物(B)所含的配位子包含通式(1)所示的化合物： |
| 申请公布号 |
TW201444854 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
| 申请号 |
TW103111352 |
申请日期 |
2014.03.27 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
津山博昭;加纳丈嘉;早田佑一 |
| 分类号 |
C07F1/08(2006.01);C09D5/24(2006.01);C09D7/12(2006.01);C08J3/28(2006.01);H05K1/09(2006.01);H05K3/12(2006.01);H05B33/26(2006.01) |
主分类号 |
C07F1/08(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
<name>叶璟宗</name><name>郑婷文</name><name>詹富闵</name> |
| 主权项 |
|
| 地址 |
日本 |
