发明名称 发光二极体及其制作方法
摘要 一种发光二极体,包括一基板及在基板上依次形成之P-GaN层、活性层及n-GaN层。在n-GaN层表面设置有电极层。n-GaN层包括第一扩散部及第二扩散部。第一扩散部临近电极层,第二扩散部设置于第一扩散部之远离电极层一侧,且第一扩散部之掺杂浓度小于第二扩散部之掺杂浓度。本发明藉由于n-GaN层表面设置第一扩散部与第二扩散部,且第二扩散部之掺杂浓度大于第一扩散部,即第二扩散部之电阻率小于第一扩散部,使电流朝远离电极之第二扩散部延伸,从而增加电流分布之均匀性,提高发光二极体之发光效率。
申请公布号 TWI463697 申请公布日期 2014.12.01
申请号 TW098145726 申请日期 2009.12.30
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号 发明人 赖志成
分类号 H01L33/14 主分类号 H01L33/14
代理机构 代理人
主权项 一种发光二极体,其包括一基板及在基板上依次形成之P-GaN层、活性层及n-GaN层,该发光二极体进一步包括一电极层,该电极层设置n-GaN层之表面,其特征在于,该n-GaN层包括第一扩散部及第二扩散部,该第一扩散部临近该电极层,该第二扩散部设置于该第一扩散部之远离该电极层一侧,且该第一扩散部之掺杂浓度小于该第二扩散部之掺杂浓度。
地址 新北市土城区自由街2号