曝光装置、曝光方法以及微型元件制造方法

摘要

一种保护装置、光罩以及曝光装置，该保护装置包括膜10，该膜10配置于离开形成着用以转印至感应基板上的图案的光罩M。上述膜10对形成着上述图案的面照射的光中，使必要的波长范围的光相对性地透过，使不必要的波长范围的光相对性地不透过。

主权项

一种曝光装置，将曝光光照射至设置了用来保护形成着图案的面的保护装置的光罩，以将该图案转印至感应基板上该光罩上，其中该保护装置具有：透过部，配置于离开该形成着图案的面的规定距离的位置，且使该曝光光透过；第1支持部，安装于该光罩，且支持该透过部的周围；以及第2支持部，配置于该曝光光的照射区域，且支持该透过部，其中该曝光装置包括光强度不均修正装置，修正因该第2支持部而产生的该曝光光的光强度不均。