发明名称 中空结构体之制造方法
摘要 一种中空结构体之制造方法,藉由下述方式制造出中空结构体:准备包含有凹陷形状的下部结构体, 藉由蒸镀聚合法,而在该下部结构体上沉积出由有机膜所构成的牺牲膜40,以该牺牲膜填埋该凹陷形状,去除该牺牲膜之不需要部分,在已去除不需要部分之该牺牲膜上形成上部结构体50,去除该牺牲膜,而在该下部结构体与该上部结构体之间形成空隙。
申请公布号 TW201445615 申请公布日期 2014.12.01
申请号 TW103111560 申请日期 2014.03.27
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 杉田吉平;桥本浩幸
分类号 H01L21/027(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 <name>周良谋</name><name>周良吉</name>
主权项
地址 日本